Nyhed
DELILAH Time Frame Future Resist Foundation SPF 20

DELILAH Time Frame Future Resist Foundation SPF 20

339,00 DKK

Vejl. udsalgspris 339,00 DKK


Opbyggelig foundation med naturlig glød, SPF 20. Giver et let og naturligt look, der holder hele dagen✨



TIME FRAME | FUTURE RESIST FOUNDATION SPF 20 ✨

Strålende finish med beskyttelse og pleje

En opbyggelig foundation der giver en blød, naturlig glød samtidig med, at huden beskyttes og plejes. Formlen indeholder peptider, antioxidanter og bredspektret SPF 20, som hjælper med at modvirke tidlige aldringstegn og bevare hudens smidighed.

Elsket af makeupartister, beauty-redaktører og delilah-brugere verden over.


Smuk hud i alle stadier

Time Frame tilpasser sig hudens behov – uanset alder:

Yngre hud
Giver frisk glød og daglig solbeskyttelse.

Hud med første linjer
Udjævner hudtonen og hjælper med at reducere fine linjer.

Moden hud
Skaber ungdommelig udstråling uden at lægge sig i linjer eller fremhæve tekstur.


Fleksibel dækning 💫

Let dækning
Påfør med fingrene for et naturligt, hverdagsvenligt resultat.

Medium dækning
Brug en foundationpensel for en mere ensartet finish med bevaret glød.

Målrettet dækning
Opbyg kun hvor der er behov – moderne foundation handler om hud, ikke maske.


Aktiv hudpleje i din makeup 🌿

Peptider
Forbedrer hudens elasticitet og mindsker synligheden af fine linjer over tid.

Antioxidanter
Beskytter mod miljøpåvirkninger og for tidlig aldring.

SPF 20 (UVA/UVB)
Daglig beskyttelse mod solens stråler – en af de største årsager til hudens aldring.


Bevidst luksus

  • Uden parabener

  • Dermatologisk testet

  • Vegansk

  • Cruelty free

  • B Corp certificeret


Sådan bruger du den

Påfør en lille mængde på fugtet hud med fokus på midten af ansigtet og ton udad.

Ekstra glød: Brug ovenpå Wake Up Radiant Skin Tint
Moden hud: Dup produktet ind fremfor at trække det hen over huden


Farvevalg

Findes i nøje udvalgte nuancer designet til at passe mange hudtoner. Den opbyggelige dækning gør det nemt at tilpasse resultatet til din hud.